●概要・化学反応により膜を堆積する方法を利用したCVD装置です。 |
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●装置構成 ・石英管用真空チャンバー |
●仕様 可変温度範囲:200℃~1000℃ 石英管サイズ:φ80~200 供給電源:200V 到達真空度:1×10-5Pa以下 バイアス電源:0~500V ●オプション 質量分析計 質量分析計用差動排気チャンバー |
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