反射率測定装置

反射率測定装置REFLECTANCE MEASUREMENT EQUIPMENT


●概要・偏光測定用θステージ・基板駆動部付の反射率測定装置です。。
●装置構成・測定室・試料交換室・ゲートバルブ　　(成膜室-試料交換室間) ・成膜室用真空計・試料交換室用真空計・成膜室用排気系・試料交換室用排気系・基板駆動機構・基板搬送機構・架台・制御システム		●カタログ・反射率測定装置(カタログ) ・基板駆動部(カタログ) ・偏光測定用θステージ(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：5×10^-5Pa以下　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ＋補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：5×10^-5Pa以下　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ＋補助バルブ、排気配管部品

〒559-0011
大阪市住之江区北加賀屋4-3-24


●概要・偏光測定用θステージ・基板駆動部付の反射率測定装置です。。
●装置構成・測定室・試料交換室・ゲートバルブ　　(成膜室-試料交換室間) ・成膜室用真空計・試料交換室用真空計・成膜室用排気系・試料交換室用排気系・基板駆動機構・基板搬送機構・架台・制御システム		●カタログ・反射率測定装置(カタログ) ・基板駆動部(カタログ) ・偏光測定用θステージ(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：5×10^-5Pa以下　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ＋補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：5×10^-5Pa以下　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ＋補助バルブ、排気配管部品