誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

・本装置は、有機電子デバイスを作製する為の高真空成膜装置です。  
・有機蒸着室、金属蒸着室、ロードロック室の3つの真空成膜室で構成されています。
・真空成膜室成膜室が1列に配列されており、背面に循環装置への搬送容器、
　グローブボックス付き不活性ガス循環装置が接続されています。
・各成膜室・搬送容器間にはゲートバルブが設置されており、大気に曝すことなく
　基板の搬送が可能です。

・有機蒸着室
・金属蒸着室
・通電加熱式蒸着源
・ロードロック室
・基板回転機構
・各真空成膜室要真空計
・各真空成膜室用排気系
・基板搬送機構
・架台
・制御システム

・タッチパネルによる遠隔操作
・グローブボックス
・搬送室チャンバー
・基板加熱機構

有機蒸着室・金属蒸着
　　　　チャンバーサイズ：550(W)×600(H)×550(D)程度【�o】
　　　　材質：SUS304
　　　　到達真空度：1×10^-5Pa以下
　　　　表面処理：G.B.B処理
　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品
ロードロック室
　　　　チャンバーサイズ：250(W)×450(H)×250(D)程度【�o】
　　　　到達真空度：1×10^-4Pa以下
　　　　表面処理：G.B.B処理
　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品
蒸着源
　　　　通電加熱式蒸着源【有機蒸着室：8式・金属蒸着室：4式】
　　　　シールド付蒸着ボード・蒸着源用シャッター付き